Přejít k obsahu

Publikační činnost

Přehled publikační činnosti je uveden ve výročních zprávách na úřední desce FAV.

Níže je k dispozici on-line výpis z databáze publikační činnosti v jednotlivých letech (Pozn. vzhledem k většímu počtu publikačních výsledků může trvat zobrazení výpisu déle).



Structure and properties of Hf-O-N films prepared by high-rate reactive HiPIMS with smoothly controlled composition

Citace:
BELOSLUDTSEV, A., HOUŠKA, J., VLČEK, J., HAVIAR, S., ČERSTVÝ, R., REZEK, J., KETTNER, M. Structure and properties of Hf-O-N films prepared by high-rate reactive HiPIMS with smoothly controlled composition. CERAMICS INTERNATIONAL, 2017, roč. 43, č. 7, s. 5661-5667. ISSN: 0272-8842
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Structure and properties of Hf-O-N films prepared by high-rate reactive HiPIMS with smoothly controlled composition
Rok vydání: 2017
Autoři: Alexandr Belosludtsev , Doc. Ing. Jiří Houška Ph.D. , Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. , RNDr. Stanislav Haviar Ph.D. , Ing. Radomír Čerstvý , Ing. Jiří Rezek Ph.D. , Miroslav Kettner
Abstrakt CZ: Keramické oxynitridy hafnia byly připraveny ve formě tenkých vrstev vysokovýkonovým pulzním magnetronovým naprašováním hafnia v různých Ar+O2+N2 plynných směsích. Plynulého řízení chemického složení bylo dosaženo maximalizací stupně disociace v plazmatu, což snížilo význam rozdílu v reaktivitě nedisociovaných molekul O2 a N2. Aplikační potenciál těchto vrstev byl dále posílen extrémně vysokými depozičními rychlostmi (např. 230 nm/min pro stechiometrický HfO2, čehož bylo dosaženo použitím zpětnovazebního pulzního řízení toku reaktivních plynů), nízkými depozičními teplotami (< 140 °C) a nepoužitím předpětí na substrátu. Soustředili jsme se na vztahy mezi prvkovým složením, fázovou strukturou a optickými, elektrickými, mechanickými a hydrofobními vlastnostmi připravených materiálů. Kvantitativně jsme popsali vývoj plynule řiditelných vlastností vrstev při přechodu od oxidu k nitridu, jako například vzrůst extinkčního koeficientu, pokles elektrického odporu, vzrůst tvrdosti nebo vzrůst kontaktního úhlu vodní kapky.
Abstrakt EN: Hafnium oxynitride ceramics were prepared in the form of thin films by high-power impulse magnetron sputtering of Hf in various Ar+O2+N2 gas mixtures. Smooth composition control was achieved by maximizing the degree of dissociation in plasma, suppressing the importance of the difference between reactivities of undissociated O2 and N2. The application potential of the films was further enhanced by extremely high deposition rates (e.g. 230 nm/min for stoichiometric HfO2; achieved by feedback pulsed reactive gas flow control), low deposition temperatures (< 140 °C) and not using any substrate bias. We focus on the relationships between elemental composition, phase structure, and optical, electrical, mechanical and hydrophobic properties of the materials. We quantify the evolution of smoothly controlled film properties along the transition from an oxide to a nitride, such as increasing extinction coefficient, decreasing electrical resistivity, increasing hardness or increasing water droplet contact angle.
Klíčová slova

Zpět

Patička