Přejít k obsahu

Publikační činnost

Přehled publikační činnosti je uveden ve výročních zprávách na úřední desce FAV.

Níže je k dispozici on-line výpis z databáze publikační činnosti v jednotlivých letech (Pozn. vzhledem k většímu počtu publikačních výsledků může trvat zobrazení výpisu déle).



Quantification of the hysteresis and related phenomena in reactive HiPIMS discharges

Citace:
BRITUN, N., KONSTANTINIDIS, S., BELOSLUDTSEV, A., SILVA, T., SNYDERS, R. Quantification of the hysteresis and related phenomena in reactive HiPIMS discharges. Journal of Applied Physics, 2017, roč. 121, č. 17, s. "171905-1"-"171905-10". ISSN: 0021-8979
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Quantification of the hysteresis and related phenomena in reactive HiPIMS discharges
Rok vydání: 2017
Autoři: Nikolay Britun , Stephanos Konstantinidis , Alexandr Belosludtsev , Tiago Silva , Rony Snyders
Abstrakt CZ: Kombinací optické emise, absorpce a laserových diagnostických technik byl experimentálně studován výboj při reaktivním vysokovýkonovém pulzním magnetronovém naprašování. Pomocí optické emisní spektroskopie byla určena hustota atomů v základním stavu. Bylo pozorováno v závislosti na podílu molekulárního kyslíku ve směsi Ar+O2 hysterezní chování pro různé parametry výboje, jako je hustota atomů O v základním stavu, hustota rozprašovaných atomů a iontů, atomů Ar v metastabilním stavu apod. Získané hustoty atomů jsou plně v souladu se známými modely reaktivního naprašování. Analyzovány jsou i příslušné mechanismy kinetiky plazmatu ovlivňující naměřené trendy.
Abstrakt EN: Reactive high-power impulse magnetron sputtering discharge has been studied experimentally combining optical emission, absorption, and laser-based diagnostic techniques. The quantification of the atomic ground state densities is performed using optical emission spectroscopy. Hysteresis behavior as a function of molecular oxygen flow fraction in Ar-O2 mixture has been observed for numerous discharge parameters, such as the ground state density of O atoms, density of the sputtered atoms and ions, Ar metastables, etc. The obtained atomic number densities are found to be in full agreement with the known models of reactive sputter deposition. The relevant plasma kinetic mechanisms influencing the measured trends are analyzed.
Klíčová slova

Zpět

Patička