Přejít k obsahu

Publikační činnost

Přehled publikační činnosti je uveden ve výročních zprávách na úřední desce FAV.

Níže je k dispozici on-line výpis z databáze publikační činnosti v jednotlivých letech (Pozn. vzhledem k většímu počtu publikačních výsledků může trvat zobrazení výpisu déle).



(Zr,Ti,O) alloy films with enhanced hardness and resistance to cracking prepared by magnetron sputtering

Citace:
MUSIL, J., ZENKIN, S., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S., ČIPEROVÁ, Z. (Zr,Ti,O) alloy films with enhanced hardness and resistance to cracking prepared by magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology, 2017, roč. 322, č. AUG 15 2017, s. 86-91. ISSN: 0257-8972
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: (Zr,Ti,O) alloy films with enhanced hardness and resistance to cracking prepared by magnetron sputtering
Rok vydání: 2017
Autoři: Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. , Sergey Zenkin , Ing. Radomír Čerstvý , RNDr. Stanislav Haviar Ph.D. , Ing. Zuzana Čiperová
Abstrakt CZ: Článek pojednává o vlivu (i) iontového bombardu a (ii) přidání malého množství kyslíku do pracovního plynu (Ar) na strukturu, mikrostrukturu, mechanické vlastnosti a pnutí vrstev (Zr,Ti) připravených DC magnetronovým naprašováním. Vlastnosti (Zr,Ti) vrstev o třech různých prvkových složeních ? (1) Zr95Ti5, (2) Zr30Ti70, (3) Zr5Ti95 byly detailně studovány. Bylo zjištěno, že (1) (Zr,Ti) vrstvy naprašované při nízké hodnotě záporného napětí na substrát Us = ? 50 V jsou krystalické, (2) (Zr,Ti) vrstvy naprašované při vysoké hodnotě záporného napětí na substrát | Us | ? 150 V jsou nanokrystalické, (3) (Zr,Ti) vrstvy připravené při všech záporných napětích na substrát Us použitých při experimentu (?50 až ?250 V) vykazují nízkou tvrdost H < 10 GPa, nízký poměr H/E* < 0,1, nízkou elastickou vratnost We < 60 % a nízkou odolnost proti vzniku trhlin a (4) přidání malého množství kyslíku do rozprašovacího plynu Ar dovoluje naprašování nanokrystalických (Zr,Ti,O) vrstev s vysokou tvrdostí H > 10 GPa, vysokým poměrem H/E* ? 0,1, vysokou elastickou vratností We ? 60 % a zvýšenou odolností proti vzniku trhlin; E* je efektivní Youngův modul. Hlavním výsledkem prezentované studie je demonstrace toho, že přidání malého množství O do (Zr,Ti) vrstev je vysoce efektivní cesta ke zvýšení jejich tvrdosti a přípravě ohebných (Zr,Ti,O) vrstev se zvýšenou odolností proti vzniku trhlin.
Abstrakt EN: The article reports on the effect of (i) the ion bombardment and (ii) the addition of small amount of oxygen into Ar sputtering gas on the structure, microstructure, mechanical properties and macrostress of the (Zr,Ti) alloy films prepared by DC magnetron sputtering. Properties of the (Zr,Ti) alloy films with three different elemental compositions ? (1) Zr95Ti5, (2) Zr30Ti70 and (3) Zr5Ti95 were investigated in detail. It was found that (1) the (Zr,Ti) alloy films sputtered at a low value of the negative substrate bias Us = ? 50 V are well crystalline, (2) the (Zr,Ti) alloy films sputtered at high values of the negative substrate bias | Us | ? 150 V are nanocrystalline, (3) the (Zr,Ti) alloy films, sputtered at all substrate biases Us used in our experiments and ranging from ? 50 to ? 250 V, exhibit low hardness H < 10 GPa, low ratio H/E* < 0.1, low elastic recovery We < 60% and low resistance to cracking and (4) the addition of small amount of oxygen in Ar sputtering gas makes it possible to sputter nanocrystalline (Zr,Ti,O) alloy films with high hardness H > 10 GPa, high ratio H/E* ? 0.1, high elastic recovery We ? 60% and enhanced resistance to cracking; here E* is the effective Young's modulus. The main result of the presented investigation is the demonstration that the incorporation of a small amount of O in a (Zr,Ti) alloy film is a very effective way to increase its hardness and to form the flexible (Zr,Ti,O) alloy films with enhanced resistance to cracking.
Klíčová slova

Zpět

Patička